2024欢迎咨询##南昌回收硫酸铜 回收乙醇##厂家

◆  规格说明：

产品规格

都可以

产品数量

600

包装说明

不限包装

价格说明

面议

◆  产品说明：

公司主要致力收购各种化工原料、化工助剂，油漆，油墨，日化原料。等等 ，具有收购的业务范围，严格的控制体系和现代化的，加上一线生产技术工人严格的培训，确保产品的要求，以客户对产品技术需求。



沸石转轮浓缩技术就是针对低浓度VOCs的治理而发展起来的一种新技术，与催化燃烧或高温焚烧进行组合，形成了沸石转轮吸附浓缩+焚烧技术。技术研究现状蜂窝转轮吸附+催化燃烧技术是2世纪7年代由日本发明的一种有机废气系统，吸附装置是用分子筛、活性碳纤维或含碳材料的瓦楞型纸板起来的蜂窝转轮，吸附与脱附气流的流向相反，两个过程同时进行。这种系统在2世纪8年代初被我国引进和仿制，但由于吸附元件(蜂窝转轮)以及系统关键部位连接技术都不过关，吸附与脱附的窜风问题未得到根本解决，设备性能不稳定，因此国内应用较少，一直未能得到推广。世纪8年代末研制设计了固定床吸附+催化燃烧系统。该系统是将吸附材料装填在固定床中，再将吸附床与催化燃烧装置组净化系统。该工艺系统的原理与上述蜂窝转轮吸附+催化燃烧技术基本相同，但由于单件吸附床的吸附与脱附再生过程分进行，在操作上克服了蜂窝转轮净化系统吸、脱附易串气的缺点。经不断，系统配置更加合理，净化效率高，运行节能效果显著，在技术上达到先进水平。该工艺系统非常适合大气体量、低浓度的VOCs废气，其单套系统的废气量可以从几千m3/h到十几万m3/h。



回用主要是对印染废水在达标的基础上进一步进行，达到回用水水质标准。工艺主要采用混凝、吸附、过滤和氧化等技术，其中对去除盐度和硬度的关键技术研究较少。由于现有技术水平的限制，印染废水大量回用对生产及废水系统会带来一系列问题，包括有机污染物和无机盐的积累。目前对废水长期回用的水质问题及对水系统的影响研究不多，特别是无机盐的积累问题基本没有涉及。印染废水深度回用技术及工艺印染废水深度主要对常规二级系统出水进行，去除的污染物主要是色度、COD和盐度（电导率）等，使出水水质满足生产工艺要求。



但同期很多地市都提出了要求限期短期快速治理，迫于形势、资金，以及技术和市场的纷繁乱象等，大多凹印企业仓促选择了等离子、光催化、催化燃烧、光解等投资几十万的临时过渡措施，也是很大的浪费。凹印VOCs末端治理方案的选择基于目前的经济、技术、环保、市场等条件，笔者认为凹印企业在选择VOCs末端治理方案之前，必须注意以下3个方面。摸底凹印企业必须摸清VOCs排放量、浓度、成分等总体情况，统筹考虑方案，特别是治理设施入口废气风量、浓度、规律等需要反复确认，这是所有项目设计和运行的基础，必须多方反复确认。减风和现场封闭优化凹印机烘箱结构，减少、合并、浓缩废气，减少排放总量，控制每色废气总量小于1m3/min或更小(但烘箱内部循环风量和风压等保持不变)，可以通过手动热风回用、自动LEL热风回用等措施来实现。浓缩后废气浓度一般大于2.5g/m3，达到RTO自维持浓度，运行后凹印企业只需承担RTO变频风机的电费即可。但凹印机烘箱减风设计，涉及烘箱设计、无组织减少、墨槽封闭、系统保温、烘干原理、凹印工艺、热风回用等，需要科研院所、凹印机械厂、热风系统集成商、凹印企业等多方统筹完成(国内凹印机上万台，凹印机械厂上百家，但烘干系统大多搬用国外机械厂2年前的系统，真正能独立统筹发设计的还没有)，这样才能实现以既定速度、风量、热量、废气浓度完成有效烘干的目的(但废气浓度低于安全值)。

） < KA 4P < 5V/1P、2P、、4P 5、BNG -160/-38 P//4P < < V 1P、2P、、4P < A/385V < Y P < 1P < 、8、16、24E V < 0）385V < < P//4P P P、、4P < /1P-N 5V < 5V < P-B80 /4P < /1P 85 N 1) 3 < < < P P 8F 0V(In:50KA,Imax:100kA) V < 0KA/1P、2P、、4P V/1P、2P、、4P /100/1P) 1P、2P、、4P V/1P、2P、、4P P、2P、、4P < < P、2P、、4P 5V 5V < 20V < 2P、1P 、、2P、1P /2P 5/4P 4P P、、2P、1P < P、2P、、4P 75 5V/1P < 1 5V < 0V(In:10KA,Imax:20KA) 300 < 0 < 2P,,4P 0/1P) S 、、2P、1P V/4P、、2P、1P < 、、2P、1P KA V-1P P、、2P、1P 4-A1 1P、2P、、4P /4P < < KA/385V/+N） < 、2P < 、2P、1P < V） < 0kA < 0KA 5V < < -4P < A < 0 < & P KA/4P 5/1P 85V < /275V < 2P//4P < 、4P-80 < 0V 1 < 、2、3、4P < < M 100/+N） < N-T 4P /1P、2P、、4P V < 85V < < V) < /1P,2P,,4P J/385V/4P < P < < < &l ） A/320V） 20KA/320V） /4P < IIY 4 /1P < < ，2，3，4P H < 、2P、1P 4P、、2P、1P max=10KA) 5-4P P、、2P、1P .4P -Z 20 0V < < 0 320V) < < MNF < MP F V/4P//2P/1P -F < P/1P 4P P、、2P、1P +N < V < V-FS < 、2P、1P P < 1P、2P、、4P 00DC/PV +1 5/1P.2P..4P V < < 0V < 85 1P） 相4+0） < 、2P、、4P V/1P、2P、、4P V 1 0 < KA-4P 1) /3+NPE P < /4P /4P P、、2P、1P 5V 5V < V/1P 20 < a < < < P /4P P +NPE V-2P V-2P . 2P. . 4P 3+NPE /4 /1，2，3，4P 0A < S /G NF P、2P、、4P P、2P、、4P -+N P < ,2P,,4P 5V 0V < 1P+NPE、+NPE - < /1P.2P..4P +1)(TY) < < 2，3，4P T2 < < < +1） < P < < 4P P < 5V KA C/2 /4P < < 00/BM µs) 5 -3 < P < 5V < 、、2P、1P V < 0/4P 0/4P 0/4P -Imax65KA-In35KA P < 0）385V < < ) P < < 、、2P、1P 4P、、2P、1P & Y) < /1P < 1P < /4P < imp15KA < 4+0） /2 < Iimp50KA .2P /4P < /4P、、2P、1P P 1P、2P、、4P (TY) TY) < Y) A < 5 < < 、3、4P < < V < 0KA）1P.2P..4P < < 2P 4P < < 2P 4P < 1，2，3，4P P、2P、、4P /4P < P 2P 4P A 1P 2P 4P < 4P Uc-420V < < P V V < /4P D-S < 1 85V < 67 /td> 383 < /4/S 1P 2P 4P P /1P、2P、、4P < 2P 4P P、2P、、4P < P /1P、2P、、4P ，3，4P 2，3，4P ，2，3，4P /1，2，3，4P P V/1，2，3，4P 1P、2P、、4P 04C(S40) PE < 3、4 )(TY) F < 2、3