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Ishizaki等进行了带缺陷超疏水膜层的腐蚀机理研究，由于裂缝的存在使膜层局部区域的疏水性降低，腐蚀介质通过裂缝渗入，从而发生腐蚀，伴随着腐蚀产物的积累，膜层被进一步破坏，使表面由超疏水状态变为超亲水状态，腐蚀扩展， 终超疏水膜层破坏。如何避免或减轻这些缺陷带来的不利影响，是超疏水膜层的研究课题之一。相法超疏水膜层的研究进展目前用于超疏水膜层的CVD方法包括常温常压化学气相沉积（常温常压CVD）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、气溶胶辅助化学气相沉积（：：CVD）等。温常压化学气相沉积常温常压CVD不需要复杂精密设备，沉积薄膜组成及结构可控，具有成本低、操作简单、膜层重复性好、膜层均匀、适用范围广以及对基体材料无损害等优点。Rollings等研究了 （TCMS）纳米纤维的影响因素，包括反应物浓度和配比、反应物分布均一性、时间和催化剂用量；相关学者还研究了反应温度对膜层疏水性的影响；Karla等采用拉曼原位监测技术研究了CVD碳纳米管（CNT）的形成和生长过程。

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