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2024欢迎访问##泰州DWPW201-A1-P1有功功率
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涂镀层
测厚仪的测量方法的测量方法主要分为以下几种:磁性测厚法:适用导磁材料上的非导磁层厚度测量。导磁材料一般为:钢\铁\银\镍。此种方法测量精度高;涡流测厚法:适用导电金属上的非导电层厚度测量。此种方法较磁性测厚法精度低;超声波测厚法:目前国内还没有用此种方法测量涂镀层厚度的,国外个别厂家有这样的仪器,适用多层涂镀层厚度的测量或则是以上两种方法都无法测量的场合。但一般价格昂贵\测量精度也不高;电解测厚法:此方法有别于以上三种,不属于无损检测,需要破坏涂镀层。
根据这四个典型的谐波波形可以知道:在嵌入式系统实验室中,三相的电流波形为整流电路特征,电容充电过程才有电流,有明显的畸变。通过FFT可以看出3次、5次和7次谐波的THDi含量都很高。其中3次谐波畸变率78%,5次为49%,7次为28%,总谐波畸变率高达95.6%,但实验室消耗的功率较低,的B相电流为16A,考虑到建筑的供电
变压器容量较大,系统阻抗较小,所以电压畸变率较低,并未超过标准限值。另一个需要注意的现象是中性线电流,当仅存在基波电流时,在中性线上会流过三相不平衡电流,各相基波电流相互抵消后的数值肯定小于相的单相基波电流。
由于采用了现代测控手段,这些设备可以得相当精密,却因设备复杂,昂贵,运作费时费工,主要作为标准计量之用,其测量精度可达±2%RH-±1.5%RH。静态法中的饱和盐法,是湿度测量中 常见的方法,简单易行。但饱和盐法对液、气两相的平衡要求很严,对环境温度的稳定要求较高。用起来要求等很长时间去平衡,低湿点要求更长。特别在室内湿度和瓶内湿度差值较大时,每次启都需要平衡6~8小时。露点法是测量湿空气达到饱和时的温度,是热力学的直接结果,准确度高,测量范围宽。
它产生的位移与输入脉冲数严格成正比,平均转速与输入脉冲的频率成正比,具有结构简单、可靠性高和成本低的特点。由于步进电机没有积累误差,容易实现较高精度的位移和速度控制,被广泛用于控制领域。由步进电机与驱动电路组成的环数控系统简单并且价格低廉,但有时存在振荡和失步现象,故在复杂电磁环境下或是对精度要求较高的场合下,必须加入反馈电路组成高性能的闭环数控系统。本文采用旋转
编码器作为反馈器件对步进电机实行闭环控制。
红外无损测量可以无需让仪器接触产品来确定温度。接触式探头适用于中心温度及货物间温度测量。 便利—— 布线是一件耗费人力物力的事情,并且后期维修繁琐。无线数据 无需布线,简便。同时 的合理固定直接影响到仪器的后期使用和维护方便,同时也能大大提高使用寿命。读取便利——传统 需要人工手动读取数据,无法实时获取报信息,而且风险点高。使用无线数据 可通过终端和
PC端,随时随地获取测量数据和报信息,来减少手动操作,而实时报功能则有助于规避风险,提高安全性。
在现代轧钢生产线中,为提高钢板组织性能,一般在精轧后采用快速冷却技术(ACC),热轧钢材轧后控制冷却能改善钢材组织,提高钢材性能,缩短热轧钢材的冷却时间,扫描式测温仪就是在ACC设备上方,能够实现即时温度测量,识别差异的动态冷、热点追踪,用于监测钢板冷却后温度的均匀性及板型轮廓。同时将测量参数反馈给ACC的二级系统,用于控制系统的自学习调整,得到更好的钢板性能和板型控制。扫描式测温仪的设备组成扫描式测温仪主要包括三个大的部分:测温探头、器L
PU和WCA软件。
半导体生产流程由晶圆,晶圆测试,芯片封装和封装后测试组成,晶圆和芯片封装讨论较多,而测试环节的相关知识经常被边缘化,下面集中介绍集成电路芯片测试的相关内容,主要集中在WAT,CP和FT三个环节。集成电路设计、、封装流程示意图WAT(WaferAcceptanceTest)测试,也叫PCM(ProcessControlMonitoring),对Wafer划片槽(ScribeLine)测试键(TestKey)的测试,通过电性参数来监控各步工艺是否正常和稳定,CMOS的电容,电阻,Contact,metalLine等,一般在wafer完成制程前,是Wafer从Fab厂出货到封测厂的依据,测试方法是用ProbeCard扎在TestKey的metalPad上,ProbeCard另一端接在WAT测试机台上,由WATRecipe自动控制测试位置和内容,测完某条TestKey后,ProbeCard会自动移到下一条TestKey,直到整片Wafer测试完成。